Technologie der Grenzflächen an Halbleiter-Leistungsbauelementen mit Silikatglas-Passivierung:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Neidig, Arno (VerfasserIn), Wahl, Georg (VerfasserIn), Weimann, Klaus 1935- (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Eggenstein Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1977
Schriftenreihe:Deutschland <Bundesrepublik>. Bundesmin. für Forschung und Technologie: Forschungsbericht. Technologische Forschung und Entwicklung. 1978,40=Elektronik.
Schlagworte:
Beschreibung:135 S. graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!