Vollimplantierte null-Komma-acht-mym-Gate-Silizium-MESFETs mit eliminierten Kurzkanal-Effekten Vollimplantierte 0,8 mym Gate Silizium MESFETs mit eliminierten Kurzkanal-Effekten:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Fernholz, Gabi (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: 1984
Schlagworte:
Beschreibung:Aachen, Techn. Hochsch., Diss.
Beschreibung:91 S. Ill., graph. Darst.

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