Oberflächenchemie von Silicium, spezielli Verhalten von Silizium bei der Si3N4-Schlickerguß-Technologie:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Meisel, Ingrid (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1989
Schlagworte:
Beschreibung:Bayreuth, Univ., Diss.
Beschreibung:VI, 129 S. Ill., graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!