Untersuchungen des Isolationsverhaltens von SF 6 und SF 6 /N 2 -Gemischen bei Beanspruchung durch hochfrequent oszillierende Stoßspannungen unter Verwendung eines weiterentwickelten Kurzzeitkamerasystems:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Zipfl, Peter (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: 1992
Schlagworte:
Beschreibung:146 S. Ill., graph. Darst.

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