(1990). Dry processing for submicrometer lithography: 12 - 13 October 1989, Santa Clara, California. SPIE.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Dry Processing for Submicrometer Lithography: 12 - 13 October 1989, Santa Clara, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1990.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Dry Processing for Submicrometer Lithography: 12 - 13 October 1989, Santa Clara, California. SPIE, 1990.
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