Tagungsbericht Maskentechnik für Mikroelektronik-Bausteine: Tagung München, 14. November 1991
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| Veröffentlicht: |
Düsseldorf
VDI-Verl.
1991
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| Schriftenreihe: | Verein Deutscher Ingenieure: VDI-Berichte
935 |
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M. Zander und Maskenmetrologie: Anforderungen und Trends 7
U. Mescheder
R. Schießl-Hoyler Abbildung von Reticle-Defekten auf
Wafer
. 41
Ch.
Nőlscher Phasenmaskenkonzepte
und -technologien 61
R. Rehländer, Experimentelle Herstellung und Charakterisierung 81
M
franosa),
von selbstjustierten Rimtyte-Phasenmasken
Ch. Nölscher und
M. Steinhauser
R D.
Buck
und Phase
Shifting Masks by Scanned Laser Lithography
95
M. L
Rieger
H.
Wolf
und Ergebnisse der Maskenherstellung mit dem 107
£ Jahn Elektronenstrahlschreiber ZBA 21
R. Springer, Maskenherstellung und Wafer-Direktschreiben mit dem 121
F. Heinlein und Elektronenstrahlschreiber HL-70O D(M)
M. Irmscher
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