Dünnschicht-Mikroanalyse:
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| Veröffentlicht: |
Halle (Saale)
1990
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| Schriftenreihe: | Universität <Halle, Saale>: Wissenschaftliche Beiträge
1990,22 = O30 |
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INHALTSVERZEICHNIS
Spinpolarisationsanalyse ,
0. Brummer
Oberflächenstrukturanalyse mit Synchrotronatrahlung
H.-R. Höohe
¿v
Dünnschicht-Röntgenmikroanalyse ,
H.-J. Hunger
¿}
Nutzung der Peak/Untergrund-Verhältnisse in der
Dünnschicht-Elektronenstrahl-Mikroanalyse
P. Gcrfu J1
Ein Verfahren zur Bestimmung des Konzentrationspro¬
fila von Schichtstrukturen mit der Elektronenstrahl-
mikrosonde ,.
H. Sträube J4
Probleme der
Korektur
der charakteristischen Fluores¬
zenz bei der quantitativen Analyse von MOSI-Schichten
auf Si-Substrat
K. Göhler il
Praktische Probleme der Bestimmung der Volumenanteile
verschiedener Phasen
V. Suchánek,
W.
Härtel - 40
Elektronenstrahlmikroanalyse dünner hochschmelzender
Schichten auf Substraten geringer Dichte
#. Schneider, M. Griepentrog, R.A. lioack 43
Untersuchungen an Spiegelachichten
K.H. Schmidt 4
Röntgenmikroanalyse am Halbzeug von Lichtwellenleitern
B. Knappe 49
Ausgewählte Beispiele der Röntgenmikroanalyse histolo-
gi3cher
Schnitte in der Pathologie
K. Augsten, J. Güttner 52
Charakterisierung von Glaskeramik-Knochen-Übergängen
mittels E3I.IA
G. Völksch, K. Naumann, P. Wange 54
Dimnachichtcharakteriaierung mittels Photoakustik
N. Wagner 57
Abbildende Snergiefilterung in der Transmissionselektro-
пепшікгозкоріе
D. Krahl
62
Quantitative Dünnschichtanalyse mittels
EELS
H.-D.
Bauer 68
Sinsatzmöglichkeiten der ESL3 zur Charakterisierung
von Materialien der Mikroelektronik
R. Schneider,
Λ .
Rechner 71
ΑΞ3
an reaktiv gesputterten 3nO -Schichten
0.
Kersten,
D. Deininger, B.RSrnmelt
77
Halbleiter-Dünnschichtanalyae mittels AE5
H.
Rößler 81
Anwendung der AES in der Oberflächenchemie
P. Streubel 8°
Quantitative AfiS an
ТІМ
-Schichten
G. Ecke x 90
AES-Untersuchungen im Grenzbereich NiCr-Wider-
standsschicht zum AI-Kontakt ■
K.-H. Bäther, J. Klosowski 93
Some XPS investigations on the interface of thin
ИМА
films with natively oxidized aluminium
W.
РоззагЇ,
W. Unger
95
Charakterisierung polykristalliner Dünnschichten
mittels Röntgen-Weitwinkel-Technik
5. Däbritz, A. Zehe. H.
Horn,
H.
»altinger
99
Sekundärelektronen-Feldemiasion, ein neues Verfahren
zur Ladungsspektroskopie in dünnen Isolatorschichten
H.-J. Pitting
101
Charakterisierung des elektrischen Schaltverhaltens
von Korngrenzen in BaTiO-j-Funktionakeramik mittels
SE-Spektroskopie J
A. Roder, K. Berndt
■ 104
Erfa3í!ung
топ
elektrischen Mikrofeldern und Strom-
filamenten in Sandwichobjekten durch Anwendung des
Rasterelektronenmikroskopes und des Elektronen-
spiegelmikroskope
з
R.
Godehardt 109
Anwendung der SIMS in der Mikroelektronik
H.
Prey,
H.
Strutzberg, N. Schellhardt,
5.
Prey,
S. Pincke
111
ESMA und Mikrokatodolumineazenz-Untersuchungen von
Halbleiteratrukturen
R. Mitdank 114
Raaterelektronenmikroskopische und optisch-spektros¬
kopische Untersuchungen von Halbleiter-Isolator-
Strukturen
St. Hildebrandt, W. Kircher, J. Schreiber 115
Untersuchung von Materialien und Bauelementen der
Optoelektronik mittels
REM
G.
Voigt 119
Grundlagen der Rastertunnelmikroskopie
II.
Hietschold 125
Aufbau eines UHV-tauglichen Rastertunnelmikroakops
zur Untersuchung von Festkörperoberflachen
J. Landgraf,
G. Matalla
130
Niederspannung-Rast
erelekt
ronenmikroskopie-Sine
nützliche Methode zum Auffinden von Defekten in
dünnen Schichten
i. Püting 134
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