APA (7th ed.) Citation

Bergmann, G. (1989). Untersuchungen zur Eignung von dotiertem PMMA als Resist für die Röntgentiefenlithographie. Physikal. Inst.

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Bergmann, Guido. Untersuchungen Zur Eignung Von Dotiertem PMMA Als Resist Für Die Röntgentiefenlithographie. Bonn: Physikal. Inst, 1989.

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Bergmann, Guido. Untersuchungen Zur Eignung Von Dotiertem PMMA Als Resist Für Die Röntgentiefenlithographie. Physikal. Inst, 1989.