Untersuchungen zur Eignung von dotiertem PMMA als Resist für die Röntgentiefenlithographie:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Bonn
Physikal. Inst.
1989
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| Schriftenreihe: | Universität Bonn, Physikalisches Institut / IR
1989,49 |
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