Submicron lithography: March 29 - 30, 1982, Santa Clara, Calif.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Washington Internat. Soc. for Optical Engineering 1982
Schriftenreihe:International Society for Optical Engineering: Proceedings of SPIE. 333.
Schlagworte:
Beschreibung:VIII, 179 S. zahlr. Ill. u. graph. Darst.
ISBN:0892523689

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