Untersuchung des tiefenaufgelösten Strahlenschadenprofils in Silizium nach Ionenimplantation mit Hilfe der MOS-Struktur:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Ferretti, Rüdiger (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Berlin 1980
Schlagworte:
Beschreibung:125 S.

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