Ecker, G., Riemann, K. U., & Schumacher, A. (1985). Zum Technologiepotential der Plasmaphysik. VDI-Verl.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Ecker, Günter, Karl Ulrich Riemann, und Alexander Schumacher. Zum Technologiepotential Der Plasmaphysik. Düsseldorf: VDI-Verl, 1985.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Ecker, Günter, et al. Zum Technologiepotential Der Plasmaphysik. VDI-Verl, 1985.
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