Zum Technologiepotential der Plasmaphysik:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Ecker, Günter (VerfasserIn), Riemann, Karl Ulrich (VerfasserIn), Schumacher, Alexander (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: Düsseldorf VDI-Verl. 1985
Schriftenreihe:Technologie aktuell 5
Schlagworte:
Beschreibung:189 S. graph. Darst.
ISBN:3181600059

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