Micron and submicron integrated circuit metrology: Aug. 22 - 23, 1985, San Diego, Calif.
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. Internat. Soc. for Optical Engineering 1985
Schriftenreihe:Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers: Proceedings of SPIE 565
Schlagworte:
Beschreibung:Literaturangaben
Beschreibung:VI, 223 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0892526009

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