Untersuchung des Ausheilverhaltens von Strahlenschäden in ionenimplantiertem Silizium während der Elektronenstrahlausheilung:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Langfeld, Roland (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1985
Schlagworte:
Beschreibung:88 S. Ill., graph. Darst.

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