Reaktionen von Sauerstoff, Stickstoff, Propan und Methan mit Sauerstoff- oder Stickstoffdotiertem Alpha-Hafnium bei hohen Temperaturen: Einfluß d. Sauerstoff- oder Stickstoffdotierung auf d. Reaktionskinetik in d. Systemen alpha-Hf-O/O2, alpha-Hf-O/N2, alpha-Hf-N/N2, alpha-Hf-N/C3H8 u. alpha-Hf-N/CH4; elektr. Widerstand in d. Mischkristallsystemen alpha-Hf-O, alpha-Hf-O-N, alpha-Hf-N u. alpha-Hf-N-C
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1985
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