Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie: Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Schlegel, Leo Wolfgang (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Mikrofilm Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1988
Ausgabe:[Mikrofiche-Ausg.]
Schlagworte:

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