Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie: Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis Microfilm Book |
| Language: | German |
| Published: |
1988
|
| Edition: | [Mikrofiche-Ausg.] |
| Subjects: |
Staff View
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV001186610 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20150829 | ||
| 007 | he|uuuuuuuuuu | ||
| 008 | 890315s1988 bm||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)630544837 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV001186610 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-19 |a DE-91 |a DE-355 |a DE-29T |a DE-188 | ||
| 100 | 1 | |a Schlegel, Leo Wolfgang |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie |b Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung |c von Leo Wolfgang Schlegel |
| 250 | |a [Mikrofiche-Ausg.] | ||
| 264 | 1 | |c 1988 | |
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b h |2 rdamedia | ||
| 338 | |b he |2 rdacarrier | ||
| 502 | |a Berlin, Techn. Univ., Diss., 1988 | ||
| 533 | |a Mikroform-Ausgabe |n Mikrofiche-Ausg. |e 2 Mikrofiches | ||
| 650 | 0 | 7 | |a Entwicklung |0 (DE-588)4113450-3 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Photoresist |0 (DE-588)4174545-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Röntgenlithografie |0 (DE-588)4178314-1 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a Röntgenlithografie |0 (DE-588)4178314-1 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Entwicklung |0 (DE-588)4113450-3 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 689 | 1 | 0 | |a Photoresist |0 (DE-588)4174545-0 |D s |
| 689 | 1 | 1 | |a Röntgenlithografie |0 (DE-588)4178314-1 |D s |
| 689 | 1 | |5 DE-604 | |
| 776 | 0 | 8 | |i Reproduktion von |a Schlegel, Leo Wolfgang |t Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie |d 1988 |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000716762 | ||
Record in the Search Index
| _version_ | 1804115586022637568 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Schlegel, Leo Wolfgang |
| author_facet | Schlegel, Leo Wolfgang |
| author_role | aut |
| author_sort | Schlegel, Leo Wolfgang |
| author_variant | l w s lw lws |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV001186610 |
| ctrlnum | (OCoLC)630544837 (DE-599)BVBBV001186610 |
| edition | [Mikrofiche-Ausg.] |
| format | Thesis Microfilm Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01568nam a2200397 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV001186610</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20150829 </controlfield><controlfield tag="007">he|uuuuuuuuuu</controlfield><controlfield tag="008">890315s1988 bm||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)630544837</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV001186610</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-19</subfield><subfield code="a">DE-91</subfield><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-29T</subfield><subfield code="a">DE-188</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Schlegel, Leo Wolfgang</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie</subfield><subfield code="b">Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung</subfield><subfield code="c">von Leo Wolfgang Schlegel</subfield></datafield><datafield tag="250" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">[Mikrofiche-Ausg.]</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">1988</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">h</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">he</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Berlin, Techn. Univ., Diss., 1988</subfield></datafield><datafield tag="533" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Mikroform-Ausgabe</subfield><subfield code="n">Mikrofiche-Ausg.</subfield><subfield code="e">2 Mikrofiches</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Entwicklung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4113450-3</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Photoresist</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174545-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Röntgenlithografie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4178314-1</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Röntgenlithografie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4178314-1</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Entwicklung</subfield><subfield code="0">(DE-588)4113450-3</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Photoresist</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174545-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2="1"><subfield code="a">Röntgenlithografie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4178314-1</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="1" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="776" ind1="0" ind2="8"><subfield code="i">Reproduktion von</subfield><subfield code="a">Schlegel, Leo Wolfgang</subfield><subfield code="t">Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie</subfield><subfield code="d">1988</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000716762</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV001186610 |
| illustrated | Not Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T15:24:58Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000716762 |
| oclc_num | 630544837 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-19 DE-BY-UBM DE-91 DE-BY-TUM DE-355 DE-BY-UBR DE-29T DE-188 |
| owner_facet | DE-19 DE-BY-UBM DE-91 DE-BY-TUM DE-355 DE-BY-UBR DE-29T DE-188 |
| publishDate | 1988 |
| publishDateSearch | 1988 |
| publishDateSort | 1988 |
| record_format | marc |
| spelling | Schlegel, Leo Wolfgang Verfasser aut Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung von Leo Wolfgang Schlegel [Mikrofiche-Ausg.] 1988 txt rdacontent h rdamedia he rdacarrier Berlin, Techn. Univ., Diss., 1988 Mikroform-Ausgabe Mikrofiche-Ausg. 2 Mikrofiches Entwicklung (DE-588)4113450-3 gnd rswk-swf Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd rswk-swf Röntgenlithografie (DE-588)4178314-1 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Röntgenlithografie (DE-588)4178314-1 s Entwicklung (DE-588)4113450-3 s DE-604 Photoresist (DE-588)4174545-0 s Reproduktion von Schlegel, Leo Wolfgang Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie 1988 |
| spellingShingle | Schlegel, Leo Wolfgang Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung Entwicklung (DE-588)4113450-3 gnd Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd Röntgenlithografie (DE-588)4178314-1 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4113450-3 (DE-588)4174545-0 (DE-588)4178314-1 (DE-588)4113937-9 |
| title | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung |
| title_auth | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung |
| title_exact_search | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung |
| title_full | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung von Leo Wolfgang Schlegel |
| title_fullStr | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung von Leo Wolfgang Schlegel |
| title_full_unstemmed | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung von Leo Wolfgang Schlegel |
| title_short | Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie |
| title_sort | zur optimierung von polymerresists fur die rontgenlithographie untersuchung uber entwicklersysteme u prozeßfuhrung bei d naßentwicklung |
| title_sub | Untersuchung über Entwicklersysteme u. Prozeßführung bei d. Naßentwicklung |
| topic | Entwicklung (DE-588)4113450-3 gnd Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd Röntgenlithografie (DE-588)4178314-1 gnd |
| topic_facet | Entwicklung Photoresist Röntgenlithografie Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT schlegelleowolfgang zuroptimierungvonpolymerresistsfurdierontgenlithographieuntersuchunguberentwicklersystemeuprozeßfuhrungbeidnaßentwicklung |