Bildung, Strahlungslebensdauer, elektronisches Löschen und Rotationsrelaxation von NH(A3pi)-Radikalen aus der UV-Photolyse von Ammoniak mit einem ArF-Excimerlaser:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Hofzumahaus, Andreas (VerfasserIn)
Format: Abschlussarbeit Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1984
Schlagworte:
Beschreibung:169 S. graph. Darst.

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