Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten:
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
Karlsruhe
Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik
1985
|
| Ausgabe: | Als Ms. gedr. |
| Schriftenreihe: | Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T
1985,59 |
| Schlagworte: | |
| Beschreibung: | 101 S. |
Internformat
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 cb4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV000309704 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 00000000000000.0 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 870612s1985 |||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)74725231 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV000309704 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakddb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-12 | ||
| 100 | 1 | |a Eichinger, Peter |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten |c von Peter Eichinger ; Peter Paduschek |
| 250 | |a Als Ms. gedr. | ||
| 264 | 1 | |a Karlsruhe |b Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik |c 1985 | |
| 300 | |a 101 S. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 490 | 1 | |a Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T |v 1985,59 | |
| 650 | 7 | |a Nachweis |2 swd | |
| 650 | 7 | |a Silicium |2 swd | |
| 650 | 7 | |a Wasserstoff |2 swd | |
| 650 | 0 | 7 | |a Nachweis |0 (DE-588)4115334-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Wasserstoff |0 (DE-588)4064784-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |a Plasmanitridschicht |2 swd | |
| 655 | 7 | |a Plasmanitridschicht |2 gnd |9 rswk-swf | |
| 689 | 0 | 0 | |a Silicium |0 (DE-588)4077445-4 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Plasmanitridschicht |A f |
| 689 | 0 | 2 | |a Wasserstoff |0 (DE-588)4064784-5 |D s |
| 689 | 0 | 3 | |a Nachweis |0 (DE-588)4115334-0 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 810 | 2 | |a Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T |t Deutschland <Bundesrepublik> |v 1985,59 |w (DE-604)BV000004400 |9 1985,59 | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000189699 | ||
Datensatz im Suchindex
| _version_ | 1804114774689054720 |
|---|---|
| any_adam_object | |
| author | Eichinger, Peter |
| author_facet | Eichinger, Peter |
| author_role | aut |
| author_sort | Eichinger, Peter |
| author_variant | p e pe |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV000309704 |
| ctrlnum | (OCoLC)74725231 (DE-599)BVBBV000309704 |
| edition | Als Ms. gedr. |
| format | Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01722nam a2200433 cb4500</leader><controlfield tag="001">BV000309704</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">00000000000000.0</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">870612s1985 |||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)74725231</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV000309704</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakddb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-12</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Eichinger, Peter</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten</subfield><subfield code="c">von Peter Eichinger ; Peter Paduschek</subfield></datafield><datafield tag="250" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Als Ms. gedr.</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Karlsruhe</subfield><subfield code="b">Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik</subfield><subfield code="c">1985</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">101 S.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T</subfield><subfield code="v">1985,59</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Nachweis</subfield><subfield code="2">swd</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="2">swd</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Wasserstoff</subfield><subfield code="2">swd</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Nachweis</subfield><subfield code="0">(DE-588)4115334-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Wasserstoff</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064784-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Plasmanitridschicht</subfield><subfield code="2">swd</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="a">Plasmanitridschicht</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Silicium</subfield><subfield code="0">(DE-588)4077445-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Plasmanitridschicht</subfield><subfield code="A">f</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Wasserstoff</subfield><subfield code="0">(DE-588)4064784-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">Nachweis</subfield><subfield code="0">(DE-588)4115334-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="810" ind1="2" ind2=" "><subfield code="a">Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T</subfield><subfield code="t">Deutschland <Bundesrepublik></subfield><subfield code="v">1985,59</subfield><subfield code="w">(DE-604)BV000004400</subfield><subfield code="9">1985,59</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000189699</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | Plasmanitridschicht swd Plasmanitridschicht gnd |
| genre_facet | Plasmanitridschicht |
| id | DE-604.BV000309704 |
| illustrated | Not Illustrated |
| indexdate | 2024-07-09T15:12:04Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-000189699 |
| oclc_num | 74725231 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-12 |
| owner_facet | DE-12 |
| physical | 101 S. |
| publishDate | 1985 |
| publishDateSearch | 1985 |
| publishDateSort | 1985 |
| publisher | Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik |
| record_format | marc |
| series2 | Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T |
| spelling | Eichinger, Peter Verfasser aut Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Peter Eichinger ; Peter Paduschek Als Ms. gedr. Karlsruhe Fachinformationszentrum Energie, Physik, Mathematik 1985 101 S. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Deutschland <Bundesrepublik> / Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T 1985,59 Nachweis swd Silicium swd Wasserstoff swd Nachweis (DE-588)4115334-0 gnd rswk-swf Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd rswk-swf Silicium (DE-588)4077445-4 gnd rswk-swf Plasmanitridschicht swd Plasmanitridschicht gnd rswk-swf Silicium (DE-588)4077445-4 s Plasmanitridschicht f Wasserstoff (DE-588)4064784-5 s Nachweis (DE-588)4115334-0 s DE-604 Bundesminister für Forschung und Technologie: Forschungsbericht / T Deutschland <Bundesrepublik> 1985,59 (DE-604)BV000004400 1985,59 |
| spellingShingle | Eichinger, Peter Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten Nachweis swd Silicium swd Wasserstoff swd Nachweis (DE-588)4115334-0 gnd Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4115334-0 (DE-588)4064784-5 (DE-588)4077445-4 |
| title | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten |
| title_auth | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten |
| title_exact_search | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten |
| title_full | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Peter Eichinger ; Peter Paduschek |
| title_fullStr | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Peter Eichinger ; Peter Paduschek |
| title_full_unstemmed | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten von Peter Eichinger ; Peter Paduschek |
| title_short | Analytik von dielektrischen Schichten für VLSI-Anwendungen, insbesondere Einfluß von Stöchiometrie und Wasserstoffgehalt auf die Eigenschaften von Plasmanitridschichten |
| title_sort | analytik von dielektrischen schichten fur vlsi anwendungen insbesondere einfluß von stochiometrie und wasserstoffgehalt auf die eigenschaften von plasmanitridschichten |
| topic | Nachweis swd Silicium swd Wasserstoff swd Nachweis (DE-588)4115334-0 gnd Wasserstoff (DE-588)4064784-5 gnd Silicium (DE-588)4077445-4 gnd |
| topic_facet | Nachweis Silicium Wasserstoff Plasmanitridschicht |
| volume_link | (DE-604)BV000004400 |
| work_keys_str_mv | AT eichingerpeter analytikvondielektrischenschichtenfurvlsianwendungeninsbesondereeinflußvonstochiometrieundwasserstoffgehaltaufdieeigenschaftenvonplasmanitridschichten |