Temperverhalten von Elektronen- und Löcherfangstellen in SiO2-Schichten von MOS-Strukturen:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Aslam, Muhammad (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1983
Schlagworte:
Beschreibung:Aachen, Tech. Hochsch., Diss.
Beschreibung:119 S.

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