Mes, P., & Verhauwen, A. (2024). Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar (6., neubearbeitete Auflage.). C.H. Beck.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Mes, Peter, und Axel Verhauwen. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar. 6., neubearbeitete Auflage. München: C.H. Beck, 2024.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Mes, Peter, und Axel Verhauwen. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar. 6., neubearbeitete Auflage. C.H. Beck, 2024.
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