Busse, R., Keukenschrijver, A., Kaess, T., Maute, L., McGuire, M., Tochtermann, P., & Werner, G. (2020). Patentgesetz: Unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens, der Regelungen zum Patent mit einheitlicher Wirkung und des Patentzusammenarbeitsvertrags mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen : Kommentar (9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage.). De Gruyter. https://doi.org/10.1515/9783110544923
Chicago Style (17th ed.) CitationBusse, Rudolf, Alfred Keukenschrijver, Thomas Kaess, Lena Maute, Mary-Rose McGuire, Peter Tochtermann, and Georg Werner. Patentgesetz: Unter Berücksichtigung Des Europäischen Patentübereinkommens, Der Regelungen Zum Patent Mit Einheitlicher Wirkung Und Des Patentzusammenarbeitsvertrags Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz Und Gesetz über Den Schutz Der Topographien Von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen Und Gesetz über Internationale Patentübereinkommen : Kommentar. 9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage. Berlin ; Boston: De Gruyter, 2020. https://doi.org/10.1515/9783110544923.
MLA (9th ed.) CitationBusse, Rudolf, et al. Patentgesetz: Unter Berücksichtigung Des Europäischen Patentübereinkommens, Der Regelungen Zum Patent Mit Einheitlicher Wirkung Und Des Patentzusammenarbeitsvertrags Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz Und Gesetz über Den Schutz Der Topographien Von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen Und Gesetz über Internationale Patentübereinkommen : Kommentar. 9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage. De Gruyter, 2020. https://doi.org/10.1515/9783110544923.