Busse, R., Keukenschrijver, A., Kaess, T., Maute, L., McGuire, M., Tochtermann, P., & Werner, G. (2020). Patentgesetz: Unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens, der Regelungen zum Patent mit einheitlicher Wirkung und des Patentzusammenarbeitsvertrags mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen und Gesetz über internationale Patentübereinkommen : Kommentar (9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage.). De Gruyter. https://doi.org/10.1515/9783110544923
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Busse, Rudolf, Alfred Keukenschrijver, Thomas Kaess, Lena Maute, Mary-Rose McGuire, Peter Tochtermann, und Georg Werner. Patentgesetz: Unter Berücksichtigung Des Europäischen Patentübereinkommens, Der Regelungen Zum Patent Mit Einheitlicher Wirkung Und Des Patentzusammenarbeitsvertrags Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz Und Gesetz über Den Schutz Der Topographien Von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen Und Gesetz über Internationale Patentübereinkommen : Kommentar. 9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage. Berlin ; Boston: De Gruyter, 2020. https://doi.org/10.1515/9783110544923.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Busse, Rudolf, et al. Patentgesetz: Unter Berücksichtigung Des Europäischen Patentübereinkommens, Der Regelungen Zum Patent Mit Einheitlicher Wirkung Und Des Patentzusammenarbeitsvertrags Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz Und Gesetz über Den Schutz Der Topographien Von Halbleitererzeugnissen, Gesetz über Arbeitnehmererfindungen Und Gesetz über Internationale Patentübereinkommen : Kommentar. 9., neu bearbeitete und erweiterte Auflage. De Gruyter, 2020. https://doi.org/10.1515/9783110544923.