Mes, P. (2015). Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar (4., neu bearbeitete Auflage.). C.H. Beck.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Mes, Peter. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar. 4., neu bearbeitete Auflage. München: C.H. Beck, 2015.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Mes, Peter. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz: Kommentar. 4., neu bearbeitete Auflage. C.H. Beck, 2015.
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