Gumprecht, T. (2014). Entwicklung von Verfahren für die reflektometrische Schichtdickenmessung und Materialcharakterisierung von dielektrischen Schichten im Vakuum-UV-Bereich bis 120 nm Wellenlänge.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Gumprecht, Thomas. Entwicklung Von Verfahren Für Die Reflektometrische Schichtdickenmessung Und Materialcharakterisierung Von Dielektrischen Schichten Im Vakuum-UV-Bereich Bis 120 Nm Wellenlänge. 2014.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Gumprecht, Thomas. Entwicklung Von Verfahren Für Die Reflektometrische Schichtdickenmessung Und Materialcharakterisierung Von Dielektrischen Schichten Im Vakuum-UV-Bereich Bis 120 Nm Wellenlänge. 2014.
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