Herstellung von integriert-optischen Sensorstrukturen in Polymersubstraten basierend auf Brechzahländerungen durch ultraviolette Laserstrahlung:
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| Format: | Book |
| Language: | German |
| Published: |
Bremen
BIAS
2011
|
| Series: | Strahltechnik
45 |
| Online Access: | Inhaltsverzeichnis |
| Physical Description: | 173 S. Ill., graph. Darst. 21 cm |
| ISBN: | 9783933762399 |
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INHALTSVERZEICHNIS
INHALTSVERZEICHNIS
ABKUERZUNGSVERZEICHNIS 9
SYMBOLVERZEICHNIS 11
1 EINLEITUNG 19
2 STAND DER TECHNIK 21
2.1 PLANPARALLELE FILMWELLENLEITER 21
2.2 STREIFENWELLENLEITER 27
2.3 PERIODISCH GESTOERTE WELLENLEITER 28
2.4 GEKRUEMMTE WELLENLEITER 31
2.5 WELLENLEITERUEBERGAENGE 32
2.6 Y-GABELN 33
2.7 MACH-ZEHNDER-INTERFEROMETER 34
2.8 FORDERUNGEN AN DIE WELLENLEITERAUSLEGUNG 36
2.9 BRECHZAHLMODIFIZIERUNG VON POLYMEREN DURCH BESTRAHLUNG 38 2.9.1
THEMATISCHE EINGRENZUNG 38
2.9.2 POLYMERSUBSTRATE FUER DIE WELLENLEITERHERSTELLUNG 40
2.9.2.1 POLYMETHYLMETHACRYLAT ALS MODELLSUBSTANZ . . .. 40 2.9.2.2
ALTERNATIVEN ZU HOMOPOLYMEREN POLYMETHYLME- THACRYLATSUBSTRATEN 44
2.9.3 REALISIERTE BAUTEILE UND PROZESSPARAMETER 45
2.9.4 WELLENLEITERSTABILITAET 47
2.10 FOLGERUNGEN AUS DEM STAND DER TECHNIK 48
3 ZIEL 51
4 WERKSTOFFE UND METHODEN 53
4.1 SUBSTRATE 53
4.1.1 AUSGANGSMATERIAL 53
4.1.2 KENNWERTE 54
4.1.3 PROBENPRAEPARATION 57
4.2 EXCIMERLASERBESTRAHLUNG 58
BIBLIOGRAFISCHE INFORMATIONEN HTTP://D-NB.INFO/1018149953
DIGITALISIERT DURCH
IMAGE 2
INHALTSVERZEICHNIS
4.3 TEMPERUNG 61
4.4 SENSITIVIERUNG 61
4.5 LITHOGRAPHIE 62
4.5.1 PHASENMASKE 62
4.5.2 CHROMMASKEN 62
4.6 LICHTMIKROSKOPIE 65
4.7 PROFILOMETRIE 65
4.8 BRECHUNGSINDEXERMITTLUNG 66
4.9 STREIFENWELLENLEITERCHARAKTERISIERUNG 69
4.9.1 FASERBASIERTER MESSAUFBAU 69
4.9.2 BRECHUNGSINDEXPROFIL 70
4.9.3 FELDRADIUS 71
4.9.4 KOPPELVERLUST 73
4.9.5 EINFUEGEDAEMPFUNG 75
4.9.6 WELLENLEITERDAEMPFUNG 76
4.9.7 Y-VERZWEIGER 77
4.9.8 WELLENLEITERBRAGGGITTER 78
4.9.8.1 TRANSMISSION 78
4.9.8.2 REFLEXION 79
4.9.8.3 POLARISATIONSABHAENGIGKEIT 79
4.9.9 MACH-ZEHNDER-INTERFEROMETER 81
4.10 EXPERIMENTELLE UNTERSUCHUNGEN 82
4.10.1 BESTRAHLUNGSPARAMETEREINGRENZUNG 82
4.10.2 TEMPERTEMPERATUREINFLUSS 83
4.10.3 MODIFIZIERUNGSTIEFE 83
4.10.4 KOMPAKTIERUNG 84
4.10.5 BESTRAHLUNGSDOSISABHAENGIGKEIT 84
4.10.6 WELLENLEITERTIEFE 86
4.10.7 GERADE STREIFENWELLENLEITER 87
4.10.7.1 POLYMER PMMA-R00 87
4.10.7.2 PMMI-POLYMERE 88
4.10.8 WELLENLEITERBRAGGGITTER 89
4.10.8.1 POLYMER PMMA-R00 89
4.10.8.2 POLYMER PMMA-D12 91
4.10.8.3 GITTERFORMATION 91
4.10.9 GEKRUEMMTE STREIFENWELLENLEITER 92
4.10.10 Y-VERZWEIGER 93
4.10.11 MACH-ZEHNDER-INTERFEROMETER 93
4.10.12 WELLENLEITERSTABILITAET 94
IMAGE 3
INHALTSVERZEICHNIS
5 ERGEBNISSE 95
5.1 BESTRAHLUNGSPARAMETEREINGRENZUNG 95
5.2 TEMPERTEMPERATUREINFLUSS 97
5.3 MODIFIZIERUNGSTIEFE 98
5.4 KOMPAKTIERUNG 100
5.5 BESTRAHLUNGSDOSISABHAENGIGKEIT 101
5.5.1 PMMA-POLYMERE 101
5.5.2 PMMI-POLYMERE 107
5.6 WELLENLEITERTIEFE 109
5.7 GERADE STREIFENWELLENLEITER 111
5.7.1 POLYMER PMMA-RO0 111
5.7.2 PMMI-POLYMERE 114
5.8 WELLENLEITERBRAGGGITTER 116
5.8.1 POLYMER PMMA-ROO 116
5.8.2 POLYMER PMMA-D12 121
5.8.3 GITTERFORMATION 122
5.9 GEKRUEMMTE STREIFENWELLENLEITER 124
5.9.1 POLYMER PMMA-ROO 124
5.9.2 POLYMER PMMA-019 126
5.10 Y-VERZWEIGER 127
5.11 MACH-ZEHNDER-INTERFEROMETER 129
5.11.1 POLYMER PMMA-ROO 129
5.11.2 POLYMER PMMA-D19 134
5.12 WELLENLEITERSTABILITAET 135
6 SCHREIBPROZESSVERKUERZUNG 139
7 EIGENSCHAFTEN DER SENSORSTRUKTUREN 143
7.1 WELLENLEITERBRAGGGITTER 143
7.1.1 GITTERFORMATION 143
7.1.2 SPEKTRALES VERHALTEN 145
7.2 MACH-ZEHNDER-INTERFEROMETER 147
8 EINFLUSS UND POTENTIAL DER SENSITIVIERUNG 153
9 ZUSAMMENFASSUNG 159
LITERATUR 161
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