Wächtler, T. (2010). Thin films of copper oxide and copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices. Univ.-Verl.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Wächtler, Thomas. Thin Films of Copper Oxide and Copper Grown by Atomic Layer Deposition for Applications in Metallization Systems of Microelectronic Devices. Chemnitz: Univ.-Verl, 2010.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Wächtler, Thomas. Thin Films of Copper Oxide and Copper Grown by Atomic Layer Deposition for Applications in Metallization Systems of Microelectronic Devices. Univ.-Verl, 2010.
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