Meisel, I. (1989). Oberflächenchemie von Silicium, speziell: Verhalten von Silicium bei der Si3N4-Schlickerguß-Technologie.
Chicago Style (17th ed.) CitationMeisel, Ingrid. Oberflächenchemie Von Silicium, Speziell: Verhalten Von Silicium Bei Der Si3N4-Schlickerguß-Technologie. 1989.
MLA (9th ed.) CitationMeisel, Ingrid. Oberflächenchemie Von Silicium, Speziell: Verhalten Von Silicium Bei Der Si3N4-Schlickerguß-Technologie. 1989.
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