APA (7th ed.) Citation

Müller, H. U. (1996). Lithographie mit Hexadecanthiol als hochauflösendem Resist für niederenergetische Elektronen ([Mikrofiche-Ausg.].).

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Müller, Harald Ulrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elektronen. [Mikrofiche-Ausg.]. 1996.

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Müller, Harald Ulrich. Lithographie Mit Hexadecanthiol Als Hochauflösendem Resist Für Niederenergetische Elektronen. [Mikrofiche-Ausg.]. 1996.