Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß:
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis Book |
| Language: | Undetermined |
| Published: |
Düsseldorf
VDI-Verl.
1995
|
| Edition: | Als Ms. gedr. |
| Series: | Fortschritt-Berichte VDI
Reihe 9, Elektronik ; 203 |
| Subjects: | |
| Online Access: | Inhaltsverzeichnis |
| Physical Description: | IX, 111 S. Ill., graph. Darst. |
| ISBN: | 318320309X |
Staff View
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 cb4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV024122947 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20090910 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 950403s1995 ad|| am|| 00||| und d | ||
| 020 | |a 318320309X |9 3-18-320309-X | ||
| 035 | |a (OCoLC)75555929 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV024122947 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakwb | ||
| 041 | |a und | ||
| 049 | |a DE-83 | ||
| 100 | 1 | |a Riethmüller, Werner |e Verfasser |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß |c Werner Riethmüller |
| 250 | |a Als Ms. gedr. | ||
| 264 | 1 | |a Düsseldorf |b VDI-Verl. |c 1995 | |
| 300 | |a IX, 111 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 490 | 1 | |a Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9, Elektronik |v 203 | |
| 502 | |a Zugl.: Berlin., Techn. Univ., Diss., 1994 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a CMOS |0 (DE-588)4010319-5 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4158814-9 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Beschleunigungssensor |0 (DE-588)4144872-8 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Siliciumsensor |0 (DE-588)4193160-9 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a CMOS |0 (DE-588)4010319-5 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Siliciumsensor |0 (DE-588)4193160-9 |D s |
| 689 | 0 | 2 | |a Beschleunigungssensor |0 (DE-588)4144872-8 |D s |
| 689 | 0 | 3 | |a Halbleitertechnologie |0 (DE-588)4158814-9 |D s |
| 689 | 0 | |8 1\p |5 DE-604 | |
| 830 | 0 | |a Fortschritt-Berichte VDI |v Reihe 9, Elektronik ; 203 |w (DE-604)BV047505631 |9 203 | |
| 856 | 4 | 2 | |m HBZ Datenaustausch |q application/pdf |u http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=018339669&sequence=000002&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |3 Inhaltsverzeichnis |
| 883 | 1 | |8 1\p |a cgwrk |d 20201028 |q DE-101 |u https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk | |
Record in the Search Index
| _version_ | 1805075867298168832 |
|---|---|
| adam_text |
Titel: Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren i
Autor: Riethmüller, Werner
Jahr: 1995
-V- Inhaltsverzeichnis 1 Einleitung . 1 1.1 Mikroelektronik-kompatible Peripheriebausteine sind nötig. 1 1.2 Sensoren und Aktuatoren mit der Siliziumtechnologie herstellen . 2 1.3 Aibeitsziele und Inhaltsübersicht. 4 2 Mikromechanische piezoresistive Beschleunigungssensoren .6 2.1 Funktionsprinzip und Modellierung . 6 2.2 Wichtige mechanische Kenngrößen . 8 2.2.1 Quasistatische Empfindlichkeit in Normalenrichtung . 8 2.2.2 Empfindlichkeit auf Querbeschleunigungen. 13 2.2.3 Frequenzverhalten.16 2.2.4 Temperaturverhalten
.18 2.3 Silizium-Piezowiderstände.20 2.3.1 Der Piezo widerstandseffekt.20 2.3.2 Wichtige Kenngrößen . 21 2.4 Zusammenfassung.23 3 Prozesse der Silizium-Mikromechanik . 25 3.1 Die Silizumplanartechnik und ihre Modifikationen .25 3.2 Der anisotrope, selektive nasschemische Siliziumätzprozeß.27 3.2.1 Anisotropie .27 3.2.2 Selektivität .28 3.2.3 Ätzmedien.30
3.3 Die Tiefenlithographie und galvanische Abformung .32 4 Beschreibung des verwendeten CMOS-Prozesses . 33 5 Erweiterungen des CMOS-Prozesses zur Sensorintegration . 35 5.1 Siliziumätzung mit Ätzstopp an hoch-Bor-dotierten Schichten.35 5.1.1 Substratherstellung .35 5.1.2 Gesamtprozeß für monolithisch integrierte Sensoren.36 5.1.3 Ätzstoppverhalten.39 5.1.4 Auswirkungen auf Bauelementeparameter.40
-VI- 5.2 Siliziumätzung mit elektrochemischem pn-Ätzstopp . 42 5.2.1 Substratherstellung 42 5.2.2 Ätzstopp-Prozeß .43 5.2.3 Auswirkungen auf Bauelementeparameter.46 5.3 Siliziumätzung mit Ätzstopp an vergrabenen Isolatorschichten .46 5.3.1 Motivation .46 5.3.2 Substratherstellung 47 5.3.3 Ätzstoppverhalten.47 5.3.4 Ergebnisdiskussion. 50 5.4 Vergleichende Bewertung der drei Ätzstoppverfahren . 51 5.5 Die Beständigkeit von Metallen in KOH-Ätzlösungen . 52 5.6 Passivierschichten für den nasschemischen Siliziumätzprozeß
. 53 5.7 Vergleichende Bewertung der verwendeten Ätzlösungen. 59 5.8 Realisierung der Piezowiderstände . 60 5.9 Erhöhung der seismischen Masse der Sensoren . 61 5.9.1 Motivation und generelle Überlegungen . 61 5.9.2 Mittels lokaler Goldgalvanik . 62 5.9.2.1 Prozeßablauf. 62 5.9.2.2 Auswirkungen auf Bauelemente . 62 5.9.3 Erhalten einer Siliziummasse . 67 5.9.3.1 Prozeßablauf und Maskendesign .67 5.9.3.2 Kompensationsstrukturen für konvexe Ecken .69 5.9.4 Zusammenfassung.
76 6 Herstellung monolithisch integrierter Beschleunigungssensoren . 78 6.1 Testchipdesign . 78 6.1.1 Der Testchip MX900 . 78 6.1.2 Der Testchip MX901 . 85 6.2 Prozeßdesign. 90 6.3 Experimentelle Ergebnisse mit den Sensoren und Diskussion . 95 7 Vorschläge für Prozeßweiterentwicklungen . 99 8 Zusammenfassung . 103 9 Literaturverzeichnis 105 |
| any_adam_object | 1 |
| author | Riethmüller, Werner |
| author_facet | Riethmüller, Werner |
| author_role | aut |
| author_sort | Riethmüller, Werner |
| author_variant | w r wr |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV024122947 |
| ctrlnum | (OCoLC)75555929 (DE-599)BVBBV024122947 |
| edition | Als Ms. gedr. |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>00000nam a2200000 cb4500</leader><controlfield tag="001">BV024122947</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20090910</controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">950403s1995 ad|| am|| 00||| und d</controlfield><datafield tag="020" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">318320309X</subfield><subfield code="9">3-18-320309-X</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)75555929</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV024122947</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">und</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-83</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Riethmüller, Werner</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß</subfield><subfield code="c">Werner Riethmüller</subfield></datafield><datafield tag="250" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Als Ms. gedr.</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="a">Düsseldorf</subfield><subfield code="b">VDI-Verl.</subfield><subfield code="c">1995</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">IX, 111 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="490" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9, Elektronik</subfield><subfield code="v">203</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Zugl.: Berlin., Techn. Univ., Diss., 1994</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">CMOS</subfield><subfield code="0">(DE-588)4010319-5</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4158814-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Beschleunigungssensor</subfield><subfield code="0">(DE-588)4144872-8</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Siliciumsensor</subfield><subfield code="0">(DE-588)4193160-9</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">CMOS</subfield><subfield code="0">(DE-588)4010319-5</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Siliciumsensor</subfield><subfield code="0">(DE-588)4193160-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="2"><subfield code="a">Beschleunigungssensor</subfield><subfield code="0">(DE-588)4144872-8</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="3"><subfield code="a">Halbleitertechnologie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4158814-9</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="830" ind1=" " ind2="0"><subfield code="a">Fortschritt-Berichte VDI</subfield><subfield code="v">Reihe 9, Elektronik ; 203</subfield><subfield code="w">(DE-604)BV047505631</subfield><subfield code="9">203</subfield></datafield><datafield tag="856" ind1="4" ind2="2"><subfield code="m">HBZ Datenaustausch</subfield><subfield code="q">application/pdf</subfield><subfield code="u">http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=018339669&sequence=000002&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA</subfield><subfield code="3">Inhaltsverzeichnis</subfield></datafield><datafield tag="883" ind1="1" ind2=" "><subfield code="8">1\p</subfield><subfield code="a">cgwrk</subfield><subfield code="d">20201028</subfield><subfield code="q">DE-101</subfield><subfield code="u">https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV024122947 |
| illustrated | Illustrated |
| indexdate | 2024-07-20T05:48:13Z |
| institution | BVB |
| isbn | 318320309X |
| language | Undetermined |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-018339669 |
| oclc_num | 75555929 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-83 |
| owner_facet | DE-83 |
| physical | IX, 111 S. Ill., graph. Darst. |
| publishDate | 1995 |
| publishDateSearch | 1995 |
| publishDateSort | 1995 |
| publisher | VDI-Verl. |
| record_format | marc |
| series | Fortschritt-Berichte VDI |
| series2 | Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9, Elektronik |
| spelling | Riethmüller, Werner Verfasser aut Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß Werner Riethmüller Als Ms. gedr. Düsseldorf VDI-Verl. 1995 IX, 111 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Fortschritt-Berichte VDI : Reihe 9, Elektronik 203 Zugl.: Berlin., Techn. Univ., Diss., 1994 CMOS (DE-588)4010319-5 gnd rswk-swf Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd rswk-swf Beschleunigungssensor (DE-588)4144872-8 gnd rswk-swf Siliciumsensor (DE-588)4193160-9 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content CMOS (DE-588)4010319-5 s Siliciumsensor (DE-588)4193160-9 s Beschleunigungssensor (DE-588)4144872-8 s Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 s 1\p DE-604 Fortschritt-Berichte VDI Reihe 9, Elektronik ; 203 (DE-604)BV047505631 203 HBZ Datenaustausch application/pdf http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=018339669&sequence=000002&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA Inhaltsverzeichnis 1\p cgwrk 20201028 DE-101 https://d-nb.info/provenance/plan#cgwrk |
| spellingShingle | Riethmüller, Werner Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß Fortschritt-Berichte VDI CMOS (DE-588)4010319-5 gnd Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd Beschleunigungssensor (DE-588)4144872-8 gnd Siliciumsensor (DE-588)4193160-9 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4010319-5 (DE-588)4158814-9 (DE-588)4144872-8 (DE-588)4193160-9 (DE-588)4113937-9 |
| title | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß |
| title_auth | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß |
| title_exact_search | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß |
| title_full | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß Werner Riethmüller |
| title_fullStr | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß Werner Riethmüller |
| title_full_unstemmed | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß Werner Riethmüller |
| title_short | Entwicklung eines Prozesses zur monolithischen Integration piezoresistiver Beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 Mym CMOS Prozeß |
| title_sort | entwicklung eines prozesses zur monolithischen integration piezoresistiver beschleunigungssensoren in einem kommerziellen 2 mym cmos prozeß |
| topic | CMOS (DE-588)4010319-5 gnd Halbleitertechnologie (DE-588)4158814-9 gnd Beschleunigungssensor (DE-588)4144872-8 gnd Siliciumsensor (DE-588)4193160-9 gnd |
| topic_facet | CMOS Halbleitertechnologie Beschleunigungssensor Siliciumsensor Hochschulschrift |
| url | http://bvbr.bib-bvb.de:8991/F?func=service&doc_library=BVB01&local_base=BVB01&doc_number=018339669&sequence=000002&line_number=0001&func_code=DB_RECORDS&service_type=MEDIA |
| volume_link | (DE-604)BV047505631 |
| work_keys_str_mv | AT riethmullerwerner entwicklungeinesprozesseszurmonolithischenintegrationpiezoresistiverbeschleunigungssensorenineinemkommerziellen2mymcmosprozeß |