Dry process: silicon molecular beam epitaxy
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Japan Soc. of Applied Physics, Publ. Office 1994
Schlagworte:
Beschreibung:In: Japanese journal of applied physics / 1. Vol. 33, No. 4 B, 1994
Beschreibung:S. 2133 - 2438 Ill., graph. Darst.

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