Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie:
Saved in:
| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Thesis Book |
| Language: | German |
| Published: |
2005
|
| Subjects: | |
| Physical Description: | 149 S. Ill., graph. Darst. |
Staff View
MARC
| LEADER | 00000nam a2200000 c 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BV021256632 | ||
| 003 | DE-604 | ||
| 005 | 20061011 | ||
| 007 | t | ||
| 008 | 051207s2005 ad|| m||| 00||| ger d | ||
| 035 | |a (OCoLC)166028937 | ||
| 035 | |a (DE-599)BVBBV021256632 | ||
| 040 | |a DE-604 |b ger |e rakwb | ||
| 041 | 0 | |a ger | |
| 049 | |a DE-29T |a DE-29 |a DE-12 |a DE-355 |a DE-188 | ||
| 082 | 0 | |a 621.381531 |2 22/ger | |
| 100 | 1 | |a Jutglà i Guillem, Àngela |d 1976- |e Verfasser |0 (DE-588)131472720 |4 aut | |
| 245 | 1 | 0 | |a Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |c von Àngela Jutglà i Guillem |
| 264 | 1 | |c 2005 | |
| 300 | |a 149 S. |b Ill., graph. Darst. | ||
| 336 | |b txt |2 rdacontent | ||
| 337 | |b n |2 rdamedia | ||
| 338 | |b nc |2 rdacarrier | ||
| 502 | |a Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2005 | ||
| 650 | 0 | 7 | |a Elektronenstrahllithografie |0 (DE-588)4151897-4 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 650 | 0 | 7 | |a Photoresist |0 (DE-588)4174545-0 |2 gnd |9 rswk-swf |
| 655 | 7 | |0 (DE-588)4113937-9 |a Hochschulschrift |2 gnd-content | |
| 689 | 0 | 0 | |a Elektronenstrahllithografie |0 (DE-588)4151897-4 |D s |
| 689 | 0 | 1 | |a Photoresist |0 (DE-588)4174545-0 |D s |
| 689 | 0 | |5 DE-604 | |
| 999 | |a oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-014577919 | ||
Record in the Search Index
| _version_ | 1804135028978876416 |
|---|---|
| adam_txt | |
| any_adam_object | |
| any_adam_object_boolean | |
| author | Jutglà i Guillem, Àngela 1976- |
| author_GND | (DE-588)131472720 |
| author_facet | Jutglà i Guillem, Àngela 1976- |
| author_role | aut |
| author_sort | Jutglà i Guillem, Àngela 1976- |
| author_variant | i g à j igà igàj |
| building | Verbundindex |
| bvnumber | BV021256632 |
| ctrlnum | (OCoLC)166028937 (DE-599)BVBBV021256632 |
| dewey-full | 621.381531 |
| dewey-hundreds | 600 - Technology (Applied sciences) |
| dewey-ones | 621 - Applied physics |
| dewey-raw | 621.381531 |
| dewey-search | 621.381531 |
| dewey-sort | 3621.381531 |
| dewey-tens | 620 - Engineering and allied operations |
| discipline | Elektrotechnik / Elektronik / Nachrichtentechnik |
| discipline_str_mv | Elektrotechnik / Elektronik / Nachrichtentechnik |
| format | Thesis Book |
| fullrecord | <?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?><collection xmlns="http://www.loc.gov/MARC21/slim"><record><leader>01218nam a2200337 c 4500</leader><controlfield tag="001">BV021256632</controlfield><controlfield tag="003">DE-604</controlfield><controlfield tag="005">20061011 </controlfield><controlfield tag="007">t</controlfield><controlfield tag="008">051207s2005 ad|| m||| 00||| ger d</controlfield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(OCoLC)166028937</subfield></datafield><datafield tag="035" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">(DE-599)BVBBV021256632</subfield></datafield><datafield tag="040" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-604</subfield><subfield code="b">ger</subfield><subfield code="e">rakwb</subfield></datafield><datafield tag="041" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">ger</subfield></datafield><datafield tag="049" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">DE-29T</subfield><subfield code="a">DE-29</subfield><subfield code="a">DE-12</subfield><subfield code="a">DE-355</subfield><subfield code="a">DE-188</subfield></datafield><datafield tag="082" ind1="0" ind2=" "><subfield code="a">621.381531</subfield><subfield code="2">22/ger</subfield></datafield><datafield tag="100" ind1="1" ind2=" "><subfield code="a">Jutglà i Guillem, Àngela</subfield><subfield code="d">1976-</subfield><subfield code="e">Verfasser</subfield><subfield code="0">(DE-588)131472720</subfield><subfield code="4">aut</subfield></datafield><datafield tag="245" ind1="1" ind2="0"><subfield code="a">Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie</subfield><subfield code="c">von Àngela Jutglà i Guillem</subfield></datafield><datafield tag="264" ind1=" " ind2="1"><subfield code="c">2005</subfield></datafield><datafield tag="300" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">149 S.</subfield><subfield code="b">Ill., graph. Darst.</subfield></datafield><datafield tag="336" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">txt</subfield><subfield code="2">rdacontent</subfield></datafield><datafield tag="337" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">n</subfield><subfield code="2">rdamedia</subfield></datafield><datafield tag="338" ind1=" " ind2=" "><subfield code="b">nc</subfield><subfield code="2">rdacarrier</subfield></datafield><datafield tag="502" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2005</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Elektronenstrahllithografie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4151897-4</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="650" ind1="0" ind2="7"><subfield code="a">Photoresist</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174545-0</subfield><subfield code="2">gnd</subfield><subfield code="9">rswk-swf</subfield></datafield><datafield tag="655" ind1=" " ind2="7"><subfield code="0">(DE-588)4113937-9</subfield><subfield code="a">Hochschulschrift</subfield><subfield code="2">gnd-content</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="0"><subfield code="a">Elektronenstrahllithografie</subfield><subfield code="0">(DE-588)4151897-4</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2="1"><subfield code="a">Photoresist</subfield><subfield code="0">(DE-588)4174545-0</subfield><subfield code="D">s</subfield></datafield><datafield tag="689" ind1="0" ind2=" "><subfield code="5">DE-604</subfield></datafield><datafield tag="999" ind1=" " ind2=" "><subfield code="a">oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-014577919</subfield></datafield></record></collection> |
| genre | (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content |
| genre_facet | Hochschulschrift |
| id | DE-604.BV021256632 |
| illustrated | Illustrated |
| index_date | 2024-07-02T13:40:45Z |
| indexdate | 2024-07-09T20:34:00Z |
| institution | BVB |
| language | German |
| oai_aleph_id | oai:aleph.bib-bvb.de:BVB01-014577919 |
| oclc_num | 166028937 |
| open_access_boolean | |
| owner | DE-29T DE-29 DE-12 DE-355 DE-BY-UBR DE-188 |
| owner_facet | DE-29T DE-29 DE-12 DE-355 DE-BY-UBR DE-188 |
| physical | 149 S. Ill., graph. Darst. |
| publishDate | 2005 |
| publishDateSearch | 2005 |
| publishDateSort | 2005 |
| record_format | marc |
| spelling | Jutglà i Guillem, Àngela 1976- Verfasser (DE-588)131472720 aut Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie von Àngela Jutglà i Guillem 2005 149 S. Ill., graph. Darst. txt rdacontent n rdamedia nc rdacarrier Erlangen-Nürnberg, Univ., Diss., 2005 Elektronenstrahllithografie (DE-588)4151897-4 gnd rswk-swf Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd rswk-swf (DE-588)4113937-9 Hochschulschrift gnd-content Elektronenstrahllithografie (DE-588)4151897-4 s Photoresist (DE-588)4174545-0 s DE-604 |
| spellingShingle | Jutglà i Guillem, Àngela 1976- Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie Elektronenstrahllithografie (DE-588)4151897-4 gnd Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd |
| subject_GND | (DE-588)4151897-4 (DE-588)4174545-0 (DE-588)4113937-9 |
| title | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |
| title_auth | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |
| title_exact_search | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |
| title_exact_search_txtP | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |
| title_full | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie von Àngela Jutglà i Guillem |
| title_fullStr | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie von Àngela Jutglà i Guillem |
| title_full_unstemmed | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie von Àngela Jutglà i Guillem |
| title_short | Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie |
| title_sort | untersuchung zur verbesserung chemisch verstarkter resists fur die elektronenstrahllithographie |
| topic | Elektronenstrahllithografie (DE-588)4151897-4 gnd Photoresist (DE-588)4174545-0 gnd |
| topic_facet | Elektronenstrahllithografie Photoresist Hochschulschrift |
| work_keys_str_mv | AT jutglaiguillemangela untersuchungzurverbesserungchemischverstarkterresistsfurdieelektronenstrahllithographie |