APA (7th ed.) Citation

Jutglà i Guillem, À. (2005). Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie.

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Jutglà i Guillem, Àngela. Untersuchung Zur Verbesserung Chemisch Verstärkter Resists Für Die Elektronenstrahllithographie. 2005.

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Jutglà i Guillem, Àngela. Untersuchung Zur Verbesserung Chemisch Verstärkter Resists Für Die Elektronenstrahllithographie. 2005.