Jutglà i Guillem, À. (2005). Untersuchung zur Verbesserung chemisch verstärkter Resists für die Elektronenstrahllithographie.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Jutglà i Guillem, Àngela. Untersuchung Zur Verbesserung Chemisch Verstärkter Resists Für Die Elektronenstrahllithographie. 2005.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Jutglà i Guillem, Àngela. Untersuchung Zur Verbesserung Chemisch Verstärkter Resists Für Die Elektronenstrahllithographie. 2005.
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