APA-Zitierstil (7. Ausg.)

Su, R. Q. (2004). New composite material based on silsesquioxane polymers and nanoporous particles for low-k dielectric application.

Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)

Su, Ruo Qing. New Composite Material Based on Silsesquioxane Polymers and Nanoporous Particles for Low-k Dielectric Application. 2004.

MLA-Zitierstil (9. Ausg.)

Su, Ruo Qing. New Composite Material Based on Silsesquioxane Polymers and Nanoporous Particles for Low-k Dielectric Application. 2004.

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