Kirch, O. (2004). Untersuchung speziell hergestellter Photolacke für die Erzeugung von Strukturen kleiner 100 nm mittels Elektronenstrahl-, IPL- und EUV-Lithographie.
Chicago Style (17th ed.) CitationKirch, Oliver. Untersuchung Speziell Hergestellter Photolacke Für Die Erzeugung Von Strukturen Kleiner 100 Nm Mittels Elektronenstrahl-, IPL- Und EUV-Lithographie. 2004.
MLA (9th ed.) CitationKirch, Oliver. Untersuchung Speziell Hergestellter Photolacke Für Die Erzeugung Von Strukturen Kleiner 100 Nm Mittels Elektronenstrahl-, IPL- Und EUV-Lithographie. 2004.
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