Kraus, T. (2004). Einfluss der Prozessparameter auf die Depositionsbedingungen und die physikalischen Eigenschaften reaktiv abgeschiedener TiN-Schichten bei der Innenbeschichtung von Rohren mittels Ionensputtern. Mensch-&-Buch-Verl.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Kraus, Thomas. Einfluss Der Prozessparameter Auf Die Depositionsbedingungen Und Die Physikalischen Eigenschaften Reaktiv Abgeschiedener TiN-Schichten Bei Der Innenbeschichtung Von Rohren Mittels Ionensputtern. Berlin: Mensch-&-Buch-Verl, 2004.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Kraus, Thomas. Einfluss Der Prozessparameter Auf Die Depositionsbedingungen Und Die Physikalischen Eigenschaften Reaktiv Abgeschiedener TiN-Schichten Bei Der Innenbeschichtung Von Rohren Mittels Ionensputtern. Mensch-&-Buch-Verl, 2004.
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