Optische Mikrosysteme auf der Basis von plasmastrukturierten U-Gräben:
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Aachen
Shaker
2003
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| Series: | Berichte aus der Mikrosystemtechnik
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INHALTSVERZEICHNIS
VORWORT
3
INHALTSVERZEICHNIS
I
VERZEICHNIS
DER
VERWENDETEN
FORMELZEICHEN
III
1
EINLEITUNG
1
2
PROZESSTECHNOLOGIE
5
2.1
ANISOTROPES
PLASMAAETZEN
.
5
2.2
ELEKTROCHEMISCHE
METALLABSCHEIDUNG
.
8
2.2.1
ZINN-GALVANIK
.
13
2.2.2
GOLD-GALVANIK
.
14
2.2.3
NICKEL-GALVANIK
.
14
3
FASERANKOPPLUNG
AN
INTEGRIERTE
SCHALTKREISE
17
3.1
MOTIVATION
UND
STAND
DER
TECHNIK
.
17
3.2
PHOTODIODEN
IN
CMOS-PROZESSEN
.
19
3.3
HERSTELLUNG
DER
FASERANKOPPLUNG
AN
INTEGRIERTE
SCHALTKREISE
.
22
3.3.1
RUECKPRAEPARATION
DES
SCHALTKREISES
.
22
3.3.2
ANISOTROPES
AETZEN
DES
FASERGRABENS
.
23
3.4
CHARAKTERISIERUNG
DER
DIODEN
.
28
3.4.1
ELEKTRISCHE
UND
OPTISCHE
MESSTECHNIK
.
28
3.4.2
MESSERGEBNISSE
.
30
4
OPTISCHE
MIKROBANK
ZUR
LASER-FASER-KOPPLUNG
35
4.1
MOTIVATION
UND
STAND
DER
TECHNIK
.
35
4.2
LOETEN
UND
EINFLUSSFAKTOREN
AUF
DIE
BENETZBARKEIT
.
39
4.2.1
EINFLUSS
DER
GRENZFLAECHEN
.
40
4.2.2
UEBERSICHT
DER
VERWENDETEN
LOTE
.
41
4.2.3
EINFLUSS
DER
METALLISIERUNG
.
42
4.2.4
LOETUMGEBUNGEN
ZUM
FLUSSMITTELFREIEN
LOETEN
.
43
4.2.5
METALL-METALL
WECHSELWIRKUNG
IN
LOTLEGIERUNGEN
.
44
4.3
SIMULATION
DER
BEIM
LOETEN
ENTSTEHENDEN
KRAEFTE
.
45
4.3.1
DAS
SIMULATIONSPROGRAMM
YYSURFACE
EVOLVER
"
.
45
4.3.2
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
DER
MIKROBANK
UND
DES
LOTES
.
46
INHALTSVERZEICHNIS
4.3.3
SIMULATIONSERGEBNISSE
.
48
4.4
KOPPELVERHALTEN
OPTISCHER
MODEN
.
54
4.5
HERSTELLUNG
DER
MIKRO-OPTISCHEN
BANK
.
60
4.5.1
GOLD-GALVANIK
.
64
4.5.2
ZINN-GALVANIK
.
65
4.5.3
NICKEL-GALVANIK
.
70
4.6
LOETEN
DES
LASERS
.
71
4.6.1
LOETEN
MIT
ZINN
.
72
4.6.2
LOETEN
MIT
SNAU
(20/80)
.
73
4.7
ABFORMUNG
DER
MIKRO-OPTISCHEN
BANK
.
78
4.7.1
POSITIVE
ABFORMUNG
.
78
4.7.2
NEGATIVE
ABFORMUNG
.
79
5
MIKRO-OPTISCHE
RESONATOREN
81
5.1
MOTIVATION
UND
STAND
DER
TECHNIK
.
81
5.2
INTEGRIERT-OPTISCHE
WELLENLEITER
UND
RESONATOREN
.
82
5.2.1
WELLENLEITER
.
82
5.2.2
FABRY-PEROT-RESONATOREN
.
85
5.3
HERSTELLUNG
DER
MIKRO-OPTISCHEN
RESONATOREN
.
87
5.3.1
ANISOTROPE
U-GRABENAETZUNG
VON
SILIZIUMOXINITRID
UND
-OXID
MIT
WOLFRAMMASKIERUNG
.
89
5.3.2
ABSCHEIDUNG
DER
SPIEGEL
.
90
5.4
ERGEBNISSE
.
91
6
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
95
A
DRUCKABHAENGIGKEIT
DER
FREIEN
REAKTIONSENTHALPIE
99
B
TREIBER-SCHALTUNG
ZUM
MODULIEREN
EINER
LASERDIODE
100
C
PROZESSPARAMETER
101
LITERATURVERZEICHNIS
109
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
117
TABELLENVERZEICHNIS
119
II |
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