Plasmaätzverfahren für multikristalline Silizium-Solarzellen: Grundlagen und Anwendungen industrienaher Prozessierung
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Shaker
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INHALTSVERZEICHNIS
1
INHALTSVERZEICHNIS
INHALTSVERZEICHNIS.
_
.7
1
EINLEITUNG.
_
.
_
.
_
.3
2
GRUNDLAGEN
.
_.
_
.
_
.
7
2.1
DAS
PLASMA
.
7
2.1.1
TYPISCHE
PLASMAREAKTIONEN
.
8
2.1.2
WECHSELWIRKUNG
DES
SYSTEMS
PLASMA
MIT
SEINER
UMWELT
.
9
2.1.3
WECHSELSPANNUNGSPLASMEN
.
14
2.1.4
VERSCHIEDENE
GERAETEKONFIGURATIONEN
FUER
RIE
UND
PE-VERFAHREN
.
18
2.2
TEXTURIERUNG
VON
SILIZIUM
.
20
2.2.1
ALLGEMEINES
.
20
2.2.2
LITERATURUEBERSICHT
FLUOR
BASIERTER
RIE
PROZESSE
.
22
2.2.3
VERGLEICH
VON
"MASKENLOSEM"
UND
MASKEN-PROZESS
ZUR
TEXTURIERUNG
.
26
2.2.4
"
NATURAL
LITHOGRAPHY
"
.
28
2.2.5
ZUSAMMENFASSUNG
DES
STANDES
DER
SILIZIUMTEXTURIERUNG
MITTELS
RIE
.
29
2.3
AETZEN
VON
PHOSPHORSILIKATGLAS
.
30
3
EXPERIMENTELLES.
_
.
_
.
_
.
_
.37
3.1
BESCHREIBUNG
DER
PLASMAAETZ-ANLAGEN
.
31
3.2
PROZESSABLAUF
DER
SOLARZELLENHERSTELLUNG
.
34
3.3
PROZESSNAHE
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
.
35
3.3.1
NICHT-ELEKTRISCHE
METHODEN
.
35
3.3.2
ELEKTRISCHE
CHARAKTERISIERUNG
.
36
3.4
WEITERE
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
ZUR
DETEKTIERUNG
VON
VERUNREINIGUNGEN
.
40
4
SILIZIUM
TEXTURIERUNG
ZUR
WIRKUNGSGRADSTEIGERUNG.
41
4.1
BESTIMMUNG
ISOTROPER
UND
ANISOTROPER
AETZBEDINGUNGEN
.
41
4.2
MASKENLOSE
TEXTURIERUNG
MITTELS
RIE
.
42
4.3
KOLLOIDALER
MASKIERUNGSPROZESS
ZUR
RIE-TEXTURIERUNG
VON
SILIZIUM
.
44
4.3.1
ENTWICKLUNG
DER
KOLLOIDALEN
MASKIERUNG
.
44
4.3.2
ENTWICKLUNG
DES
RIE
PROZESSES
.
49
4.3.3
PROZESSTRANSFER
ZU
MULTIKRISTALLINEM
MATERIAL
.
52
4.3.4
OPTISCHE
CHARAKTERISIERUNG
TEXTURIERTER
MC-SI
WAFER
UND
SOLARZELLEN
.
53
4.4
UEBERTRAGUNG
DES
RIE
PROZESSES
AUF
PE-ANLAGEN
BEI
GLEICHZEITIGEM
WECHSEL
VOM
EINZEL-WAFER
AUF
BATCH-SYSTEM
.
57
4.4.1
BARREL
REAKTOR
.
57
4.4.2
PECVD
SIN
REAKTOR
.
58
4.5
SOLARZELLENEXPERIMENTE
MIT
TEXTURIERTEM
MULTIKRISTAILINEN
SILIZIUM
.
61
4.5.1
ERGEBNISSE
RIE
TEXTURIERTER
SOLARZELLEN
.
61
4.5.2
UNTERSUCHUNGEN
ZU
RIE
INDUZIERTEN
SCHAEDIGUNGEN
.
65
4.5.3
VERGLEICH
VERSCHIEDENER
AETZGASE
FUER
RIE
UND
PE
.
68
4.5.4
CHARAKTERISIERUNG
DER
PE
(PECVD
REAKTOR)
GEAETZTEN
WAFER
.
69
4.5.5
RUECKAETZEN
DER
PLASMAINDUZIERTEN
(RIE
UND
PE)
SCHAEDIGUNG
.
70
4.5.6
EINFLUSS
DER
AETZTIEFE
UND
DER
TEMPERATUR
.
75
2
INHALTSVERZEICHNIS
5
ENTFERNUNG
VON
PHOSPHORSILIKATGLAS
DURCH
PLASMAAETZEN.
_
.
_
79
5.1
ENTWICKLUNG
DES
PLASMAAETZPROZESSES
.
79
5.1.1
BESTIMMUNG
DER
AETZRATEN
UND
SELEKTIVITAETEN
.
80
5.1.2
UNTERSUCHUNG
DER
REDEPOSITIONEN
.
82
5.2
SOLARZELLENEXPERIMENTE
MIT
PE-GEAETZTEM
PHOSPHORSILIKATGLAS
.
85
5.2.1
PLASMASCHAEDIGUNGEN
.
85
5.2.2
REINIGUNGSPLASMEN
.
86
6
ZUSAMMENFASSUNG
.
_
.
_
.
_
.
_
89
7
AUSBLICK
_
91
VERWENDETE
ABKUERZUNGEN.
.94
ABBILDUNGSVERZEICHNIS.YY.95
TABELLENVERZEICHNIS
-----
.
_
_
_
.
_
.98
LITERATURVERZEICHNIS
.
.
.
-
.
.
_
.99
PUBLIKATIONEN
.
105
LEBENSLAUF.
.107
DANKSAGUNG
.
109 |
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