Physikalische Grundlagen der technischen Diamantabscheidung im Heißdraht-CVD-Verfahren:
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2003
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INHALTSVERZEICHNIS
0.
KURZFASSUNG
XX
1.
EINLEITUNG
UND
ZIELSETZUNG
1
2.
GRUNDLAGEN
/
HOT-FILAMENT-CVD-PROZESS
2.1.
AKTIVIERUNG
DER
GASPHASE
3
2.2.
GASPHASENREAKTIONEN
9
2.3.
REAKTIONEN
AN
DER
SUBSTRATOBERFLAECHE
/
DIAMANTWACHSTUM
12
3.
EXPERIMENTELLES
3.1
PROBENAUSWAHL
UND-VORBEHANDLUNG
18
3.2
DIAMANTBESCHICHTUNG
UND
ANLAGENBAU
18
3.3
CHARAKTERISIERUNGSMETHODEN
21
3.3.1.
RASTERELEKTRONENMIKROSKOPIE
(REM)
21
3.3.2.
RAMANSPEKTROSKOPIE
21
3.3.3.
KALORIMETRIE
23
3.3.4.
MASSENSPEKTROSKOPIE
25
3.3.5.
INFRAROTSPEKTROSKOPIE
(IR)
25
3.3.6.
OPTISCHE
LICHTMIKROSKOPIE
UND
PHOTOGRAPHIE
25
3.3.7.
ROENTGENDIFFRAKTOMETRIE
(XRD)
25
4.
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
4.1
GASPHASENAKTIVIERUNG
AN
DER
FILAMENTOBERFLAECHE
26
4.1.1
LEBENSDAUER
BZW.
STABILITAET
DES
FILAMENTS
26
4.1.2
WASSERSTOFFDISSOZIATION
AN
DER
FILAMENTOBERFLAECHE
30
4.1.3
PHYSIKALISCHES
MODELL
UND
DISKUSSION
38
4.2.
EINFLUSS
DER
TEMPERATUR
AUF
DIE
CVD-DIAMANTBESCHICHTUNG
49
4.2.1.
PARAMETERBEEINFLUSSUNG
DURCH
TEMPERATURVARIATIONEN
49
4.2.2. DISKUSSION
DES
TEMPERATUREINFLUSSES
53
4.3.
EINFLUSS
DER
GASPHASE
AUF
DIE
CVD-DIAMANTBESCHICHTUNG
59
4.3.1.
DRUCKABHAENGIGKEIT
59
4.3.2.
FLUSSABHAENGIGKEIT
65
4.3.3.
DISKUSSION
DER
DRUCKABHAENGIGKEIT
69
4.3.4.
DISKUSSION
DER
FLUSSABHAENGIGKEIT
79
VI
INHALTSVERZEICHNIS
4.4.
TECHNOLOGISCHE
UMSETZUNG
DER
ERKENNTNISSE
/
HOMOGENES
88
BESCHICHTEN
KOMPLEXER
BAUTEILE
5.
ZUSAMMENFASSUNG
95
6.
LITERATURVERZEICHNIS
98 |
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