Grimm, K. (2001). Supercritical Si 1-x Ge x alloy layers for optoelectronic applications grown by atmospheric pressure chemical vapor deposition.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Grimm, Karsten. Supercritical Si 1-x Ge X Alloy Layers for Optoelectronic Applications Grown by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition. 2001.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Grimm, Karsten. Supercritical Si 1-x Ge X Alloy Layers for Optoelectronic Applications Grown by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition. 2001.
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