(2001). Extreme ultraviolet (EUV) sources for lithography based on synchrotron radiation (Als Ms. gedr.). FZKA.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Extreme Ultraviolet (EUV) Sources for Lithography Based on Synchrotron Radiation. Als Ms. gedr. Karlsruhe: FZKA, 2001.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Extreme Ultraviolet (EUV) Sources for Lithography Based on Synchrotron Radiation. Als Ms. gedr. FZKA, 2001.
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