Photopatterning of thick photoresist layers for MEMS applications:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Roth, Sylvain (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: 2000
Schlagworte:
Beschreibung:Neuchâtel, Univ., Diss., 2000
Beschreibung:IV, 120 S. Ill., graph. Darst.

Es ist kein Print-Exemplar vorhanden.

Fernleihe Bestellen Achtung: Nicht im THWS-Bestand!