Herstellung und Charakterisierung von PECVD abgeschiedenem mikrokristallinem Silizium:
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| Format: | Buch |
| Sprache: | German |
| Veröffentlicht: |
2000
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| Beschreibung: | Hagen, Fernuniv., Diss., 2000 |
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INHALTSVERZEICHNIS
INHALTSVERZEICHNIS
1.
EINLEITUNG
.
5
2.
STAND
DES
WISSENS
.
8
2.1.
ABSCHEIDEVERFAHREN
.
8
2.
1.
1.
PHYSIKALISCHE
ABSCHEIDUNG
AUS
DER
GASPHASE
(PVD)
.
10
2.1.1.1.
VERDAMPFUNG.
10
2.
1.1.2.
LONENZERSTAEUBUNG
(SPUTTERING).
11
2.
1.2.
CHEMISCHE
ABSCHEIDUNG
AUS
DER
GASPHASE
(CVD)
.
13
2.
1.3.
PLASMA
UNTERSTUETZTES
CVD
(PECVD)
.
17
2.
1.3.1.
PLASMAGRUNDLAGEN
.
17
PLASMAPARAMETER
.
.
.
18
LONISATIONSGRAD
.
19
PLASMATEMPERATUR
.
19
DEBEYLAENGE
.
23
PLASMASCHILDE
.
23
PLASMAFREQUENZ
.
25
PLASMAEXISTENZBEDINGUNG
.
26
2.1.3.2.
DC
UND
HF-PLASMEN
.
27
ANLEGEN
EINER
DC-SPANNUNG
.
27
ANLEGEN
EINER
HF-SPANNUNG
.
31
BIAS-SPANNUNG
IN
HF-PLASMEN
.
35
BOMBARDISIERUNGSEFFEKTE
VON
OBERFLAECHEN
.
36
2.2.
VHF-CVD
FUER
DIE
ABSCHEIDUNG
VON
PC
-
SI:H
.
38
2.3.
SILANCHEMIE
.
42
2.3.1.
AUSWIRKUNGEN
DER
VERDUENNUNG
MIT
WASSERSTOFF.
.
45
2.4.
WACHSTUMSMODELLE
FUER
PC
-
SI:H
.
47
2.4.1.
OBERFLAECHENDIFFUSIONSMODELL
.
47
2.4.2.
PARTIELLES
CHEMISCHES
GLEICHGEWICHT
.
50
2.
4.3.
PREFERENTIAL
ETCHING
.
5
1
2.4.4.
CHEMICALANNEALING
.
52
3.
EXPERIMENTELLES
.
54
3.1.
CHARAKTERISIERUNGSVERFAHREN
.
54
3.1.1.
BESTIMMUNG
DER
SCHICHTDICKE
.
54
INHALTSVERZEICHNIS
3.1.2.
MESSVERFAHREN
ZUR
BESTIMMUNG
DER
ELEKTRISCHEN
LEITFAEHIGKEIT
.
55
VIER-SPITZEN
MESSUNG.
57
ZWEI-SPITZEN
MESSUNG
.
59
3.1.3.
BESTIMMUNG
DER
AKTIVIERUNGSENERGIE
DER
DUNKELLEITFAEHIGKEIT
.
61
3.1.4.
OPTISCHE
CHARAKTERISIERUNG
.
63
TRANSMISSIONS
/
REFLEXIONSMESSUNGEN
.
63
BESTIMMUNG
DER
OPTISCHEN
BANDLUECKE
.
65
BESTIMMUNG
DER
OBERFLAECHENRAUHIGKEIT
AUS
REFLEXIONSMESSUNGEN
.
66
3.1.5.
SPEKTRALELLIPSOMETRIE
.
67
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
.
67
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
DES
KRISTALLINEN
SILIZIUMS
.
72
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
DES
AMORPHEN
SILIZIUMS
.
73
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
DES
PC
-
SI:H
.
74
EXPERIMENTELLE
BESTIMMUNG
DER
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
.
75
MESSPRINZIP
EINES
ELLIPSOMETERS
MIT
ROTIERENDEM
ANALYSATOR
.
77
EFFEKTIVE
DIELEKTRISCHE
FUNKTION
.
78
MODELLIERUNG
DER
SPEKTREN
.
82
3.1.6.
STRUKTURELLE
CHARAKTERISIERUNG
.
85
RAMANSPEKTROSKOPIE
GRUNDLAGEN
.
85
MAKROSKOPISCHE
THEORIE
DER
RAMANSTREUUNG
.
85
BESTIMMUNG
DER
VOLUMENANTEILE.
87
KORNGROESSENEFFEKTE
.
91
AUSWIRKUNG
MECHANISCHER
VERSPANNUNG
.
92
BESCHREIBUNG
DES
RAMANSPEKTROMETERS
.
94
ROENTGENUNTERSUCHUNGEN
.
95
4.
HERSTELLUNG
UND
EIGENSCHAFTEN
DER
PC
-
SI:H
SCHICHTEN
.
96
4.1.
BESCHREIBUNG
DER
DEPOSITIONSANLAGE
.
96
4.1.1.
REINIGUNG
DER
GLASSUBSTRATE
.
100
4.2.N-TYP
SILIZIUM
.
100
4.2.1.
ERGEBNISSE
DER
ROENTGENUNTERSUCHUNG
.
102
TEILCHENGROESSEN
.
102
TEXTURUNTERSUCHUNG
.
104
ANTEIL
DER
SILIZIUMKRISTALLITE
.
105
ZUSAMMENFASSUNG
.
105
4.2.2.
VARIATION
DES
DEPOSITIONSDRUCKES
.
106
4.2.3.
VARIATION
DER
DEPOSITIONSTEMPERATUR
.
117
4.2.4.
VARIATION
DER
DOTIERUNG
.
121
4.2.5.
VARIATION
DER
ANREGUNGSFREQUENZ
.
127
4.2.6.
VARIATION
DER
WASSERSTOFFVERDUENNUNG
.
132
4.2.7.
VARIATION
DER
ABSCHEIDEDAUER
.
137
2
INHALTSVERZEICHNIS
4.3.P-TYP
SILIZIUM
.
140
4.3.1.
VARIATION
DER
DEPOSITIONSTEMPERATUR
.
140
4.3.2.
ERSTELLUNG
EINES
EINFACHEREN
OPTISCHEN
MODELLS
FUER
DIE
PC
-
SI:H
SCHICHTEN
.
146
5.
EINSATZ
IN
HETEROSOLARZELLEN
.
148
5.
1.
BESCHREIBUNG
DER
STRUKTUR
DER
HETEROSOLARZELLE
.
148
5.2.
HERSTELLUNG
DER
SOLARZELLE
.
149
5.3.
ERGEBNISSE
UND
DISKUSSION
.
150
5.4.
ANHANG
.
154
6.
ZUSAMMENFASSUNG
.
155
7.
LITERATURVERZEICHNIS
.
158
ANHAENGE
A.
SYMBOLLISTE
.
167
B.
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
.
169
C.
TABELLENVERZEICHNIS.
175
D.
VEROEFFENTLICHUNGEN
.
176
E.
DANKSAGUNG
.
182
F.
LEBENSLAUF
.
183
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