The Second International Symposium on Applied Plasma Science: (ISAPS '99) ; 20 - 24 September 1999, Osaka, Japan
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Körperschaft: International Symposium on Applied Plasma Science Osaka (VerfasserIn)
Format: Tagungsbericht Buch
Sprache:Undetermined
Veröffentlicht: Amsterdam [u.a.] Elsevier 2000
Schriftenreihe:Vacuum 59,1
Schlagworte:
Beschreibung:Einzelaufnahme eines Zeitschr.-H.
Beschreibung:380 S. Ill., graph. Darst.

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