Herstellung und Charakterisierung von CoSi 2 Si-Heterostrukturen und Ge CoSi 2 Si-Heterostrukturen:
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Jülich
Forschungszentrum Jülich GmbH, Zentralbibl.
2000
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3811 |
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INHALTSVERZEICHNIS
1
EINLEITUNG
1
2
GRUNDLAGEN
DES
WACHSTUMS
VON
EPITAKTISCHEN
COSI
2
/SI
HETEROSTRUKTUREN
4
2.1
DAS
MATERIALSYSTEM
COSI2/SI
.
5
2.1.1
DIE
SILIZIDE
DER
UBERGANGSMETALLE
.
5
2.1.2
MATERIALEIGENSCHAFTEN
VON
COSI2
.
7
2.2
HERSTELLUNG
VON
EPITAKTISCHEN
COSI
2
/SI-HETEROSTRUKTUREN
.
8
2.3
ALLOTAXIE
VON
OBERFLAECHENSCHICHTEN
.
11
2.3.1
OSTWALDREIFUNG
.
12
2.3.2
KOALESZENZ
.
15
2.3.3
SCHICHTSTABILITAET
.
15
2.3.4
EINFLUSS
DER
ALLOTAXIEPARAMETER
BEIM
WACHSTUM
VON
SI/COSI2/SI
HETEROSTRUKTUREN
.
23
3
ANALYSEMETHODEN
25
3.1
HOCHENERGETISCHE
REFLEXIONSELEKTRONENBEUGUNG
(RHEED)
.
25
3.2
RUTHERFORD-RUECKSTREUUNG
(RBS)
.
.
.
.
29
3.2.1
LONENGITTERFUEHRUNG
(CHANNELING)
.
31
3.2.2
VERWENDETE
GEOMETRIEN
.
32
3.3
SEKUNDAERIONENMASSENSPEKTROMETRIE
(SIMS)
.
34
3.4
VAN-DER-PAUW-MESSUNGEN
DES
SCHICHTWIDERSTANDES
(VDP)
.
35
3.5
RASTERKRAFTMIKROSKOPIE
(AFM)
.
36
II
INHALTSVERZEICHNIS
3.6
TRANSMISSIONSELEKTRONENMIKROSKOPIE
(TEM)
.
37
4
AUFBAU
UND
KALIBRIERUNG
DER
MBE-ANLAGE
38
4.1
AUFBAU
DER
MBE-ANLAGE
.
38
4.2
CHARAKTERISIERUNG
UND
KALIBRIERUNG
DER
VERDAMPFERQUELLEN
.
43
4.2.1
KALIBRIERUNG
DER
VERDAMPFERQUELLEN
FUER
SB,
GE,
CO
UND
SI
.
43
4.2.2
KALIBRIERUNG
DER
BORQUELLE
.
45
4.2.3
NACHREGELUNG
DER
CO-KALIBRIERUNG
.
46
5
WACHSTUM
VON
COSI2(100)-OBERFLAECHENSCHICHTEN
50
5.1
HERSTELLUNG
VON
(LOO)-ORIENTIERTEN
COSI2-OBERFLAECHENSCHICHTEN
.
51
5.2
EINFLUSS
DER
SUBSTRATTEMPERATUR
.
54
5.3
EINFLUSS
DER
CO-PEAKKONZENTRATION
.
60
5.4
HERSTELLUNG
VON
10
NM
DICKEN
SCHICHTEN
.
'
.
67
6
WACHSTUM
VON
COSI2(LLL)-OBERFLAECHENSCHICHTEN
70
6.1
HERSTELLUNG
VON
EX
SITU
GETEMPERTEN
COSI
2
(LLL)-OBERFLAECHENSCHICHTEN
.
72
6.2
HOMOEPITAXIE
VON
COSI2
AUF
COSI2(LLL)-OBERFLAECHENSCHICHTEN
.
75
6.3
OPTIMIERUNG
DER
ALLOTAXIE
IN
SITU
GETEMPERTER
COSI2(LLL)-OBERFLAECHEN
SCHICHTEN
.
79
6.3.1
EINFLUSS
DER
PEAKKONZENTRATION
.
80
6.3.2
EINFLUSS
DER
AUFDAMPFTEMPERATUR
.
84
6.3.3
EINFLUSS
DER
TEMPERTEMPERATUR
.
87
7
WACHSTUM
VON
VERGRABENEN,
EPITAKTISCHEN
SILIZIDSCHICHTEN
89
7.1
HERSTELLUNG
VON
EPITAKTISCHEN
SI/COSI2/SI-HETEROSTRUKTUREN
.
90
7.2
WACHSTUM
VON
EPITAKTISCHEN
GE/COSI2/SI-HETEROSTRUKTUREN
.
93
7.2.1
WACHSTUM
VON
(LLL)-ORIENTIERTEN
GE-SCHICHTEN
AUF
SI
MIT
HILFE
DER
SURFACTANT
MEDIATED
EPITAXY
(SME)
.
94
7.2.2
HERSTELLUNG
VON
EPITAKTISCHEN
GE/COSI2/SI-HETEROSTRUKTUREN
AUF
DER
BASIS
IMPLANTIERTER
COSI2-SCHICHTEN
.
97
INHALTSVERZEICHNIS
III
7.2.3
HERSTELLUNG
VON
EPITAKTISCHEN
GE/COSI2/SI-HETEROSTRUKTUREN
AUF
DER
BASIS
VON
IN
SITU
GETEMPERTEN
COSIA-SCHICHTEN
.
100
8
EINFLUSS
DER
OXIDATION
EINER
COSI2-SCHICHT
AUF
DIE
DOTIERSTOFFDIFFUSION
103
8.1
OXIDATION
VON
COSI2
.
104
8.2
WACHSTUM
VON
DOTIERSTOFFUEBERGITTERN
.
106
8.2.1
WACHSTUM
VON
B-UEBERGITTERN
.
106
8.2.2
HERSTELLUNG
VON
SB-UEBERGITTERN
MIT
HILFE
DER
SOLID
PHASE
EPITAXY
.
108
8.2.3
WACHSTUM
VON
SB-UEBERGITTERN
MIT
HILFE
DER
NIEDRIGTEMPERATUR-MBELLL
8.3
UNTERSUCHUNG
DER
DOTIERSTOFFDIFFUSION
.
113
8.3.1
ANALYSE
DER
TIEFENPROFILE
.
114
8.3.2
ERGEBNISSE
DER
DIFFUSIONSEXPERIMENTE
.
120
8.3.3
DISKUSSION
DER
DIFFUSIONSDATEN
.
121
9
ZUSAMMENFASSUNG
127
10
ANHANG
131
A.
REINIGUNG
DER
SI-WAFER
.
131
B.
ABKUERZUNGEN
.
132
LITERATURVERZEICHNIS
133
ABBILDUNGSVERZEICHNIS
141
DANKSAGUNG
145 |
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