Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten:
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Stuttgart
Fraunhofer-IRB-Verl.
1999 [erschienen] 2000
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7 |
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INHALTSVERZEICHNIS
1.
EINLEITUNG
1
1.1
MOTIVATION
UND
ZIELSETZUNG
1
1.2
GLIEDERUNG
DER
VORLIEGENDEN
ARBEIT
2
2.
TRANSPARENTE
UND
LEITFAEHIGE
OXIDE
5
2.1
ANFORDERUNGEN
AN
TCO-SCHICHTSYSTEME
5
2.2
HISTORISCHE
ENTWICKLUNG
VON
TRANSPARENTEN
UND
LEITFAEHIGEN BESCHICHTUNGEN
8
2.3
PHYSIKALISCHE
UND
CHEMISCHE
EIGENSCHAFTEN
VON
TCO-SCHICHTSYSTEMEN
11
2.3.1
OPTISCHE
EIGENSCHAFTEN
11
2.3.2
DOTIERUNG
14
2.3.3
ELEKTRISCHE
LEITFAEHIGKEIT
16
2.3.4
MIKROSTRUKTUR
UND
MORPHOLOGIE
20
3.
REAKTIVES
MAGNETRONSPUTTERN
VON
TCO-SCHICHTSYSTEMEN
25
3.1
UEBERSICHT
25
3.1.1
GRUNDLAGEN
FUER
DAS
REAKTIVE
SPUTTERN
OPTISCHER
FUNKTIONSSCHICHTEN
25
3.1.2
BEGRUENDUNG
DER
PROZESSINSTABILITAET
UND
DER
HYSTERESE
IN
EINFACHEN
MODELLEN
29
3.2
KONZEPTE
ZUR
OPTIMIERUNG
DER
DEPOSITIONSPARAMETER
34
3.2.1
STABILISIERUNG
DES
UEBERGANGSBEREICHS
34
3.2.2
SEPARATION
VON
TARGET
UND
SPUTTERBEREICH
35
3.2.3
ERHOEHUNG
DER
REAKTIVITAET
35
3.3
MAGNETRONSPUTTERQUELLEN
38
3.4
REAKTIVES
MITTELFREQUENZ-MAGNETRONSPUTTEM
39
4.
EXPERIMENTELLE
METHODEN
43
4.1
HERSTELLUNG
DER
PROBEN
43
4.1.1
AUFBAU
DER
BESCHICHTUNGSANLAGE
43
4.1.2
DURCHFUEHRUNG
DER
BESCHICHTUNGSVERSUCHE
47
4.1.3
SCHICHTCHARAKTERISIERUNG
48
4.1.4
OPTISCHE
UNTERSUCHUNGEN
49
4.1.5
LEITFAHIGKEITS-UND
HALL-MESSUNGEN
52
4.1.6
UNTERSUCHUNGEN
ZU
STRUKTUR
UND
MORPHOLOGIE
54
4.1.7
CHEMISCHE
CHARAKTERISIERUNG
55
5.
EXPERIMENTELLE
ERGEBNISSE
57
5.1
ENERGIEAUFGELOESTE
LONENSTROMMESSUNGEN
57
5.1.1
AUFBAU
EINER
GEGENFELD-PLASMASONDE
57
5.1.2
AUSWERTUNG
DER
SONDENKENNLINIEN
59
5.1.3
VERGLEICH
VON
DC-UND
MF-PROZESSEN
61
5.1.4
DISKUSSION
63
5.2
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
SNO
2
-BASIERTER
TCO-SCHICHTSYSTEME
64
5.2.1
REAKTIVES
DC
UND
MF-MAGNETRONSPUTTEM
VON
SNO
2
:SB-SCHICHTSYSTEMEN
64
5.2.2
UNTERSUCHUNGEN
AN
DOTIERTEN
SNO
2
-SCHICHTSYTEMEN
69
5.2.3
ZUSAMMENFASSUNG
DER
UNTERSUCHUNGSERGEBNISSE
AN
DOTIERTEN
SNO
2
-SCHICHTSYSTEMEN
82
5.3
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
REAKTIV
GESPUTTERTER
ZNO:AL
UND
ZNO:IN-SCHICHTSYSTEME
83
5.3.1
REAKTIVES
SPUTTERN
VON
ZNO:AL-UND
ZNO:IN-SCHICHTSYSTEMEN
84
5.3.2
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
DC
UND
MF-GESPUTTERTER
ZNO:AL-SCHICHTSYSTEMEN
89
5.3.3
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
MF-GESPUTTERTER
ZNO:IN-SCHICHTSYSTEME
94
5.3.4
ZUSAMMENFASSUNG
DER
UNTERSUCHUNGEN AN IN
UND
AL-DOTIERTEN ZNO-SCHICHTSYSTEMEN
98
5.4
REAKTIVES
MF-HOCHRATE-MAGNETRONSPUTTEM
VON
ZNO:AL-SCHICHTSYSTEMEN
99
5.4.1
DEPOSITION
VON
ZNO:AL-SCHICHTSYSTEMEN
UNTER
HOCHRATEBEDINGUNGEN
99
5.4.2
PHYSIKALISCHE
EIGENSCHAFTEN
106
5.4.3
ZUSAMMENFASSUNG
DER
UNTERSUCHUNGEN
ZUM
MF-HOCHRATE-SPUTTERN
VON
ZNO:AL
111
6.
DISKUSSION
113
6.1
DAS
SYSTEM
SNO
2
:SB
113
6.2
DAS
SYSTEM
ZNO:AL
116
6.3
DAS
SYSTEM
ZNO:IN
117
6.4
GRENZEN
DES
VERFAHRENS
117
7.
ZUSAMMENFASSUNG
UND
AUSBLICK
119
8.
ANHANG
123
8.1
ZUSAMMENSTELLUNG
DER
ABKUERZUNGEN
123
8.2
ZUSAMMENSTELLUNG
DER
FORMELZEICHEN
124
9.
LITERATURVERZEICHNIS
125
DANKSAGUNG
135 |
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