In-line characterization techniques for performance and yield enhancement in microelectronic manufacturing II: 23 - 24 September, 1998, Santa Clara, California
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Format: Buch
Sprache:English
Veröffentlicht: Bellingham, Wash. SPIE 1998
Schriftenreihe:Proceedings of SPIE / Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers 3509
Schlagworte:
Beschreibung:IX, 244 S. Ill., graph. Darst.
ISBN:0819429686

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