APA (7th ed.) Citation

Stein, J. (1999). Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD (Als Ms. gedr.). Shaker.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Stein, Josef. Niedertemperatur-Deposition Von Siliziumdioxid Mittels Remote-PECVD. Als Ms. gedr. Aachen: Shaker, 1999.

MLA (9th ed.) Citation

Stein, Josef. Niedertemperatur-Deposition Von Siliziumdioxid Mittels Remote-PECVD. Als Ms. gedr. Shaker, 1999.