Untersuchungen zum Verhalten von C 60 als Resist in der Röntgenlithographie:
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Krämer, Heike (VerfasserIn)
Format: Buch
Sprache:German
Veröffentlicht: 1998
Schlagworte:
Beschreibung:Bonn, Univ., Diss., 1998
Beschreibung:III, 110 S. Ill., graph. Darst.

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